产生晶须的原因与试验,观察评估的难题解决
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晶须问题与产生原因
“晶须(whisker)”都是种黑色重金属材质外外表面自然是衍生出黑色重金属材质单晶硅体的干涉现象,在锡(Sn)涂层、锌(Zn)涂层等外外表面极为种类。之后一切正如晶须中的须字之意,这样黑色重金属材质晶体就如同猫和鼠的络腮胡一致,呈针状或瘤状衍生。晶须问题与历程
如果电子电路或连接部长出了晶须,可能会导致短路,引发电机产品、电子电路、电子元件等的故障。
1946年,收音机可变电容器开始采用镉电镀后,进入市场的产品接连发生短路故障,镉晶须自此便开始受到关注。
1950年代,微量铅合金技术作为一种抑制晶须的措施,逐渐开始推广普及。但是进入2000年代后,无铅🤪化焊接的浪潮💞席卷全球,让锡电镀成为了时代的新宠。随后,小到手表,大到核反应堆,甚至连NASA人工卫星、航天飞机等航空航天领域,都开始接二连三地出现晶须引起的故障,这项问题再次成为了全球关注的焦点,重要性激增。
晶须的产生原因
之但是会产生晶须,基本是接受了列举原则的损害。- 金属间化合物扩散的影响
- 电偶腐蚀*的影响
- 外部应力的影响
- 热膨胀系数差造成的应力的影响
晶须产生的环境
锡、锌基本成分的晶须在贴近于温度的能力下也会体现高效外向外扩散的局面,但在多种氛围能力的影晌下,无素外向外扩散会获取促进会。引发晶须的是指性氛围能力一下表达。- 室温下产生
- 温度循环中产生
- 氧化、腐蚀性产生
- 外压下产生
- 电迁移现象*中产生
晶须试验及观察、评估
晶须的出现及生张会触发调速电机及自动化物品的故障问题,一般来说会全面实施当下耐压及了解评价,以便实施可以防止感染保障措施。接着将以晶须评价耐压的玩法及生活环境特征分析,对有关系了解评价的发展趋势与行为采取就说明。晶须评估试验示例
现有晶须测试实验的的种类与生活环境有以下几点如下图所示。- 室温静置试验
- 对金属间化合物/扩散影响导致的晶须生长进行观察
环境:30±2°C/60±3%RH、时间:4000 Hr
- 恒温恒湿试验
- 对电偶腐蚀导致的晶须生长进行观察
环境:55±3°C/85±3%RH、时间:2000 Hr
- 温度循环试验
- 对热膨胀系数差导致的晶须生长进行观察
环境:低温 -55±5°C或-40±5°C/高温 85±2°C或125±2°C、循环:2000个循环
- 外部应力试验
- 对外部应力影响导致的晶须生长进行观察
种类:连接器嵌合试验(使用实际产品)、荷重试验(荷重300 gf的0.1Φ氧化锆球,维持500 h)
预防晶须的关键,放大观察及评估
通过各类试验对产生、生长的晶须实施放大观察,并据此开展状态分析与评估,能够帮助我们提前掌握产品的故障风险,及时采取对策。放大观察及评估能够在电机产品、电子元件等产品正式上市前,提供研究开发、电路设计、材料选用、生产制造等方面的重要信息。
晶须的放大观察,会使用光学显微镜或扫描电子显微镜(SEM),其中,扫描电子显微镜能够用短波长电子束替代光线,进行纳米级的观察。但是近年来,随着光学系统与图像处理技术的飞速发展,能够以𒅌简单操作观察清晰图像的数码显微系统相继登场,使得用清晰图像高效观察评估晶须成🍎为了可能。
晶须观察评估难题的解决案例
之前,晶须了解里常用的扫锚电子技术高倍体视显微镜(SEM)及高倍体视显微镜要面临着各式繁多的繁多的困局。 基恩士的二次搬运费柔性生产手机数码显微机系统化“VHX款型”设备了以品质可靠技术工艺为驱动程序力的得辨别率HR镜头时、4K CMOS、数字影像机系统化、户外照明等特点,可经由单纯工作,迅猛推动针对明晰4K形象的增加关注。上面说明很好解决晶须关注风险评估中种类困局的技术应用案例分享。解决用扫描电子显微镜(SEM)观察晶须是面临的难题
难题:使用扫描电子显微镜(SEM)时
观察晶须时,要花费许多时间和精力进行观察前的准备工作,例如在样本室内调节样本的位置,通过“抽真空”使样本室处于真空或低真空状态等等。
此外,由于只能从样本的正上方进行观⛄察,如需观察具有立体结构的晶须,每换一次角度就要重新进行一轮准备工作。
引进4K数码显微系统“VHX系列”后
再生利用刚开发的磁学系统与4K CMOS,不要再运用负压室,就可以简单在下垫面自然环境下改变包扩全世界、极高6000倍的变小观看。这样不仅能能够充分解决办法准备工作工时相应SEM遭遇的话题,还得用明确的4K蒙题辨率图面做出观看。解决用显微镜观察晶须是面临的难题
难题:使用部分光学显微镜时
在观察具有立体结构的晶须,抑或是产生晶须的样本为立体物时,显微镜只能进行局部对焦。
由于无法进行倾斜观察,必须花费大量时间去调节观察位置,观察难度很高,要求操作者具备一定的熟练度。
引进4K数码显微系统“VHX系列”后
借力用夺判定率HR画面和直流电动画面准换器共同的保证 的“无缝焊接缩小”,没有替换画面,就能以20至6000倍的系数拍摄照片明确的4K图相,展开扩大观擦。- A. 高分辨率HR镜头
- B. 电动镜头转换器
观察立体生长晶须的新基准
高精细4K数码显微系统“VHX系列”还配备了可进行晶须3D形状测量及轮廓测量的“三维尺寸测量”功能、过往拍摄条件自动再现功能、报告创建功能等众多功能。
作为一款能够对立体生长晶须进行定量化、高效化观察、分析及测量的产品,“VHX系列”将成为替代部分显微镜和SEM的新工具,在电机产品、电子🦋元件及各类相关领域的生产现场发挥💧重要的作用。