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电子元件行业

产生晶须的原因与试验，观察评估的难题解决

“晶须”出现的主要的原因有多，含有“晶须”的厂品渗入卖场后或者会造成交流接触器机 、電子构件漏电等出现故障，必定实施有郊的应对策略。上面将对晶须的出现主要的原因、生长期机制与场景，或者各样评价指标可靠性试验实施说明。深入分析管理方面光学薄膜光学显微镜观察观测及测试電子光学显微镜观察观测（SEM）在晶须观测管理方面遭遇的薄弱环节，说明实用创新4K电子数码光学显微镜观察观测体统改善这么多薄弱环节的方案怎么写。
产生晶须的原因与试验，观察评估的课题解决

晶须问题与产生原因

“晶须（whisker）”都是种复合表层自然生态出现出复合多晶硅体的迹象，在锡（Sn）镀锌层、锌（Zn）镀锌层等表层极为较为常见。照句晶须中的须字之意，此类复合沉淀和猫和耗子的胡子是一样的，呈针状或瘤状出现。

晶须问题与历程

如果电子电路或连接部长出了晶须，可能会导致短路，引发电机产品、电子电路、电子元件等的故障。
1946年，收音机可变电容器开始采用镉电镀后，进入市场的产品接连发生短路故障，镉晶须自此便开始受到关注。
1950年代，微量铅合金技术作为一种抑制晶须的措施，逐渐开始推广普及。但是进入2000年代后，无铅化💮焊接的浪潮席卷全球，让锡电镀成为了时代的新宠。随后，小到手表，大到核反应堆，甚至连NASA人工卫星、航天飞机等航空航天领域，都开始接二连三地出现晶须引起的故障，这项问题再次成为了全球关注的焦点，重要性激增。

晶须的产生原因

之所有会有晶须，一般是因为了中所客观因素的的影响。
  • 金属间化合物扩散的影响
  • 电偶腐蚀*的影响
  • 外部应力的影响
  • 热膨胀系数差造成的应力的影响
除此或者，可能还在由于另外的几大类基本要素的干扰，可是晶须会产生的更本原理最好一款 谜。 电偶被蚀化… 对异种合金材料来进行电器进行连接时，在三者间电极电位差功效公布生的被蚀化的情况，又被可称“异种合金材料交往被蚀化”。

晶须产生的环境

锡、锌因素的晶须在贴近于恒温的因素下也会反映加快吸附作用的状况，但在两种场景因素的印象下，设计元素吸附作用会拥有增强。产生了晶须的指代性场景因素如下如下如下。
  • 室温下产生
  • 温度循环中产生
  • 氧化、腐蚀性产生
  • 外压下产生
  • 电迁移现象*中产生
在电变迁这种现象中发生的晶须，会造成在电流量密度计算公式较高的半导体电源芯片及倒装电源芯片等比较特殊封口中。 电变更现状…感应电流从集成系统线路里面的的不锈钢配线中流下时，不锈钢分子发生的挪动的现状。以铝配线加以分析，铝分子要朝电子为了满足电子时代发展的需求，流的定位挪动后，阳极侧就会起晶须或小丘衍生出來。

晶须试验及观察、评估

晶须的所产生及植物的生长会引致交流接触器及电子无线类产品的发动机故障，往往会制定常见耐压及观察分析植物风险鉴定，是为了体现了应对政策。现在将以晶须风险鉴定耐压的各种类型及大环境概述，对有关系观察分析植物风险鉴定的未来发展趋势与更倾向采取原因分析。

晶须评估试验示例

法规晶须考评做实验的时候的品类与室内环境以下随时。
室温静置试验
对金属间化合物/扩散影响导致的晶须生长进行观察
环境：30±2°C/60±3%RH、时间：4000 Hr
恒温恒湿试验
对电偶腐蚀导致的晶须生长进行观察
环境：55±3°C/85±3%RH、时间：2000 Hr
温度循环试验
对热膨胀系数差导致的晶须生长进行观察
环境：低温 -55±5°C或-40±5°C/高温 85±2°C或125±2°C、循环：2000个循环
外部应力试验
对外部应力影响导致的晶须生长进行观察
种类：连接器嵌合试验（使用实际产品）、荷重试验（荷重300 gf的0.1Φ氧化锆球，维持500 h）

预防晶须的关键，放大观察及评估

通过各类试验对产生、生长的晶须实施放大观察，并据此开展状态分析与评估，能够帮助我们提前掌握产品的故障风险，及时采取对策。放大观察及评估能够在电机产品、电子元件等产品正式上市前，提供研究开发、电路设计、材料选用、生产制造等方面的重要信息。
晶须的放大观察，会使用光学显微镜或扫描电子显微镜（SEM），其中，扫描电子显微镜能够用短波长电子束替代光线，进行纳米级的观察。但是近年来，随着光学系统与图像处理技术ౠ的飞速发展，能够以简单操作观察清晰图像的数码显微系统相继登场，使得用清晰图像高效观察评估晶须成为了可能。

晶须观察评估难题的解决案例

上前，晶须看中所用的复印机扫描网络体视体视显微镜（SEM）及体视体视显微镜面临着着各种应有尽有的薄弱环节。 基恩士的二次搬运费精微数字显微模式“VHX编”选配了以最先进技术性为动力软件力的拿高分别率HR长焦镜头、4K CMOS、影响模式、照明设计等实用功能，可顺利通过简易操作的，很快建立系统设计清晰可见4K图形的扩大查看。下文解绍解决方法晶须查看评价指标中以及薄弱环节的应该用的例子。
用4K数码显微系统“VHX系列”观察连接器的晶须
用4K数码显微系统“VHX系列”观察连接器的晶须

解决用扫描电子显微镜（SEM）观察晶须是面临的难题

难题：使用扫描电子显微镜（SEM）时

观察晶须时，要花费许多时间和精力进行观察前的准备工作，例如在样本室内调节样本的位置，通过“抽真空”使样本室处于真空或低真空状态等等。
此外，♔由于只能从样本的正上方进行观察，如需观察具有立体结构的🐲晶须，每换一次角度就要重新进行一轮准备工作。

引进4K数码显微系统“VHX系列”后

灵活运用新开业发的光学材料系统软件与4K CMOS，不用再灵活运用机械泵室，能够 立即在典雅区域环境下变现区域全世界、更高6000倍的变成分析。这样不仅能充分地解決做好准备工时某一SEM要面临的话题，还能开明晰的4K满辩认率图文通过分析。
甚至要能合理利用“全方向监测体统”与“高高精准度X、Y、Z电动四轮载物台”模块，保持与生理盲点、翻转视频轴、偏移角轴相连接的偏移角仔细观测，轻松愉快保持各大角度看的仔细观测。 采用“导航模块实时监控自动合成视频”功用，竟然能在事关高功率、低辩别率的与此同时，对子范本综合通过全幅对焦。只需在综合图面中鼠标点击会选择是需要了解的定位，就能自己成功完成载物台挪动、对焦及长度自动合成视频，不只能少去上下调整子范本定位的琐事，还能通过高质量了解。
可实现倾斜观察的“全方位观测系统”
可实现倾斜观察的“全方位观测系统”

解决用显微镜观察晶须是面临的难题

难题：使用部分光学显微镜时

在观察具有立体结构的晶须，抑或是产生晶须的样本为立体物时，显微镜只能进行局部对焦。
由于无法进行倾斜观察，必须花费大量时间去调节观察位置，观察难度很高，要求操作者具备一定的熟练度。

引进4K数码显微系统“VHX系列”后

只依靠用得辩认率HR广角快门时和自动广角快门时互转器一同完成的“无缝焊接图片缩放”，不能不拆换广角快门时，就能以20至6000倍的倍数拍好不清的4K数字图像，采取扩大检查。
A. 高分辨率HR镜头　B. 电动镜头转换器
  1. A. 高分辨率HR镜头
  2. B. 电动镜头转换器
谈谈晶须导致的表面层坑坑洼洼，也要通过包含了高度人工的“导航模块及时人工”用途，在保证功率及粪便率的阶段下，对最终目标物整体性确定对焦。只需在全幅对焦的图片中点击率选定所需观测的位址，就能自动化成功载物台位移和端点人工，做到了作业管理吸收率的跨越性提高了。 采取“全定位监测机系统”和“高精准度X、Y、Z电动四轮载物台”，还能达成部件高倍显微镜没有坐到的歪斜观测。就可以以每个的视角，高效率的观测每个观测部位零件的瘤状晶须。

观察立体生长晶须的新基准

高精细4K数码显微系统“VHX系列”还配备了可进行晶须3D形状测量及轮廓测量的“三维尺寸测量”功能、过往拍摄条件自动再现功能、报告创建功能等众多功能。
作为一款能够对立体生长晶须进行定量化、高效化观察、分析及测量的产品，“VHX系列”将成为替代部分显微镜和SEM的新工具，在电机产品、电子元件及各类相关领ಞ域🀅的生产现场发挥重要的作用。

如需学习“VHX型号”的详细信息，追捧点选哪项图标，下截调取设备根目录或马上谘询。
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