图案检测机光显微系統 VK-X3000 类别

搭载白光干涉功能
纳米/微米/毫米一台即可完成测量

逾越激光束光学显微镜的受限,以双重测试的方式对于
  • 一台即可测量纳米/ 微米/ 毫米
  • 一台即可了解希望获取的信息
  • 最高分辨率0.01 nm

VK-X3000 系列 - 形状测量激光显微系统

用到了三种方法扫锚方法,运作激光行业共精准定位、白光灯干涉现象、精准定位影响等三种方法有差异 的扫锚原里,高倍数和低倍数,平面设计、高低不平表明的微小很糙度,各类雾面体,明亮体等。VK具有对于多种不同印刷品的精确测量方法效率(从 1 nm 到 50 mm),nm/2um/mm每台完整精确测量方法。

产品特性

Basic Characteristics

观察

从光学元件光学显微镜到SEM领域行业整台系统适用于
  • 42 至 28800 倍
  • 无需对焦
  • 适用于多种样品

测量

非接触到不经意间扫描仪扫描形式
  • 不会损伤目标物
  • 纳米级别也可准确测量
  • 透明体和坡度大的目标物也可测量

分析

梦想了解到的外表面“不同之处”分门别类
  • 定量化微小形状
  • 轻松比较多个样品
  • 粗糙度分析

三重扫描方式
解决“难以测量”的难题

白光干涉 / 激光共聚焦 / 聚焦变化

可各个印刷品零部件的资料、造型和测试标准,决定激光手术共精准定位、白灯干涉现象、精准定位转变 等三大各个的扫描仪基本原理,开始高精准度测试。

最高分辨率0.01 nm

即使是纳米级的微小形状变化也能准确测量。
此外,如镜面体、透明体等测量难度高的材料也能实现高速、高精度、大范围的测量。

连高度差较大的凹凸处
和大范围区域也能测量

最大扫描区域50 mm见方。
凹凸不平或手掌大小的物体也能整体扫描。
只需一台设备,即可同时掌握整体形状和局部形状。

精确测量高倍率和低倍率。平面和凹凸面。

适于于各种类型梦想物的衡量意识