控制模块 VK-X1000

VK-X1000 - 控制器

*请主意，圖片中的佩饰或者不有在设备中。

技术规格(PDF)

水平規格(PDF)

规格

应用			VK-X1000
的类型			管理器
全方位的系数			28,800 倍以下^*1
世界 (面积最小世界依据)			11 µm 至 7,398 µm
帧率 (激光器检测线速度)			4 至 125 Hz、7,900 Hz^*2
预估远离	光学反应程序		针孔共集焦光学薄膜系统性、调焦
	光推送器件		16 bit 感器光电材料增涨器、高柔性生产多彩CMOS
	扫描方式 (常规测量时及图像拼接时)		自功两边限设置好系统、绕城高速光量最好化系统 (AAGII)、反射性光量问题增加系统 (双打印)
相对高度測量	显视判断率		0.5 nm (VK-X1100)、5 nm (VK-X1050)
	线形刻度
	动态量程 (来自工件的光接收量的适用幅度)		16 bit
	重覆的精密度σ	激光行业共精准定位	20 倍 : 40 nm、50 倍 : 12 nm (VK-X1100) 20 倍 : 40 nm、50 倍 : 20 nm (VK-X1050)
		对焦	5 倍 : 500 nm、10 倍 : 100 nm、20 倍 : 50 nm、50 倍 : 20 nm (VK-X1100) 5 倍 : 500 nm、10 倍 : 100 nm、20 倍 : 50 nm、50🌳 倍 : 30 nm (VK-X1050)
	高数据资料拿范畴		70 万步数
	精确性		0.2 + L/100 µm 或更小 (L = 测量长度 µm)^*3
参数自动测量	表现辨认率		1 nm (VK-X1100)、10 nm (VK-X1050)
	连续精密度较 3σ	皮秒激光共集焦	20 倍 : 100 nm、50 倍 : 40 nm (VK-X1100) 20 倍 : 100 nm、50 倍 : 50 nm (VK-X1050)
		对焦	5 倍 : 400 nm、10 倍 : 400 nm、20 倍 : 120 nm、50 倍 : 50 nm (VK-X1100) 5 倍 : 400 nm、10 倍 : 400 nm、20 倍 : 120 nm、50 倍 :💝 65 nm (VK-X1050)
	更准确度		测量值±2 % 以内^*3
XY 载物台机构	手工操作依据		70 mm x 70 mm
	电动伸缩执行範圍		100 mm x 100 mm
探究	分析图像文件		高水准高效化五彩CMOS 画像、16 bit 激光手术器五彩共的点画像、共的点 + ND 滤波器光学元件平台、C - 激光手术器微分干涉现象画像
	采光		环状照明设备系统、同轴落射照明设备系统
测定用智能机械的光源	吸光度		紫色半导体激光 404 nm (VK-X1100) 红色半导体激光 661 nm (VK-X1050)
	更大效果		1 mW
	机光服务		2 类脉冲激光物料 (GB7247.1)
电源开关	开关电源电阻值		100 至 240 VAC、50/60 Hz
	需求量瞬时电流		150 VA
体重			约 3.0 kg
^1 23 寸显示器画面上的倍率 (全屏显示器时)。 ^2 测量模式/测量品质/镜头倍率的组合中、取最快的一组组合时。线扫描的情况下、测量间距小于 0.1 µm 时。 ^*3 使用 20 倍以上的镜头测量标准样品 (标准刻度) 时。

技术性年纪(PDF) 其他形号