外形检测激光手术显微设计 VK-X3000 系列作品

在测量头 VK-X3100

VK-X3100 - 测量头

*请考虑，图片大全中的零配件可能不有在成品中。

规格

型号规格		VK-X3100
种类		自动测量头
网络综合倍数		42 至 28800 倍^*1
面前依据		11 至 7398 μm
在线测量方法		激光束共准确把握、准确把握变换、白灯约束现象、分光约束现象
激光行业光线光波长		半导体器件智能机械 404 nm
更高激光机器自动测量的速度		面：125 Hz、线：7900 Hz^*2
皮秒激光比较大输出精度		0.9 mW
智能机械等级保护		2 类脉冲光的产品（GB7247.1）
缴光受光组件		16 bit 感应器光电材料持续增长器
紫色光线		暗红色 LED
紫色光受光部件		超长细致五彩 CMOS
二氧化碳激光共精准定位	极高表明分别率	0.1 nm
	的高度多次精确度 σ	10 倍：100 nm、20 倍：40 nm、50 倍：12 nm
	超高准确的性	0.2+L/100 μm 以下^*3
	参数彰显鉴别率	0.1 nm
	屏幕宽度匹配多次重复精度等级 3σ	10 倍：200 nm、20 倍：100 nm、50 倍：40 nm
	长宽较准性	测量值 ±2% 以内^*3
凝焦的变化	极高出现粪便率	0.1 nm
	高重复使用高精准度 σ	5 倍：500 nm、10 倍：100 nm、 20 倍：50 nm、50 倍：20 nm
	间距正确性	0.2+L/100 μm 以下^*3
	宽显视辨别率	0.1 nm
	长宽反复重复精准度 3σ	5 倍：400 nm、10 倍：400 nm、20 倍：120 nm、 50 倍：50 nm
	总宽准确无误性	测量值 ±2% 以内^*3
白灯干预	间距出现签别率	0.01 nm
	高宽比表明判断率	0.1 nm
	Surface Topography Repeatability	0.08 nm^*4
	Repeatability of RMS	0.008 nm^*4
分光干预膜厚校正	多次重复误差 σ	0.1 nm^*4
	较准性	±0.6%^*4
光学玻璃分析	清晰度数	560 万
	转变成器	6 孔电动式快门转换成器
	适中用于弧形照明工作的境头	2.5 倍、5 倍、10 倍
	光学元件微距	1 至 8 倍
XY 载物台架构	人工操作执行范围之内	70 × 70 mm
	电动式正常运行的范围	100 × 100 mm
外接电源	外接电源电压值	100 至 240 VAC、50/60 Hz
	耗电量输出	150 VA
氛围抗耐心	场景室温	+15 至 28°C
	相对环境湿度的	20 至 80% RH（无凝固）
容量		约 13 kg
^1 23 寸显示器画面上的倍率（全屏显示时） ^2 测量模式 / 测量品质 / 镜头倍率的组合中，取最快的一组组合时。线扫描的情况下，测量间距小于 0.1 μm 时。 ^3 使用 20 倍以上的镜头测量标准样品时 ^4 基恩士规定测量环境下的代表值。

技术工艺規格(PDF) 其它的款型

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在测量头 VK-X3100

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